CVD炉

CVD炉

工艺目的:

特殊物料(含溶剂、易燃易爆物、易氧化)在高温煅烧过程中,为了降低爆炸燃烧风险或为了满足特殊工艺需求,将惰性气体作为保护性气氛(通常为氮气)通入回转窑中,代替空气作为加热介质。通过在线监测的氧含量测定仪,控制气氛炉内的氧含量,整套设备采用间接式加热,密闭性好,无气体及粉尘外泄。

煅烧温度:100℃—1050℃

加热形式:间接式天然气/电加热

运行方式:连续进料连续出料

保护气氛:氮气


特点:

  • 本化学气相沉积炉采用多温区控温,温度均匀性好;

  • 本化学气相沉积炉采用特殊结构沉积室,密封效果好,抗污染能力强;

  • 本化学气相沉积炉采用多通道沉积气路,流场均匀,无沉积死角,沉积效果好;

  • 本化学气相沉积炉对炭沉积过程中产生的焦油、固体粉尘、有机气体等能进行有效处理。


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